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等離子增強器

簡要描述:CIF等離子增強器是專為CVD管式爐研發的升級改造模塊,通過加裝等離子體發生裝置,可將傳統熱CVD設備直接升級為PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)系統,大幅降低用戶采購全新PECVD設備的投入成本,適配科研、半導體、新能源等多領域薄膜制備需求。

  • 產品型號:PE150
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2026-05-09
  • 訪  問  量:113

詳細介紹

品牌CIF產地類別國產
應用領域化工,電子/電池,汽車及零部件,綜合

核心優勢

u 原位升級改造:現有管式爐直接加裝,無需更換整爐,改造周期短、投資成本低,快速實現設備功能升級

u 低溫沉積工藝:利用等離子體高效活化前驅體氣體,顯著降低反應溫度,適配低溫不耐受基底

u 膜層質量優異:沉積薄膜更致密、均勻性好、附著力強,減少膜層缺陷,提升產品合格率

u 材料體系拓展:可制備傳統CVD難以實現的多種功能薄膜,滿足不同行業工藝需求

產品特點

u 智能交互界面:配備7寸彩色觸摸屏,支持中英文雙語操作,可實時監控、自動調節工藝參數,內置20組工藝配方,數據可存儲、可追溯,便捷管理生產/實驗流程

u 穩定控制系統:采用PLC全程控制,支持手動/自動雙模式切換,運行穩定可靠,杜絕工藝波動

u 適配性強:ICP離子源可升降設計,兼容不同品牌、不同規格CVD管式爐,通用性強

u 人性化結構:操作面板60°傾角設計,符合人體工學,操作舒適便捷;上控制下艙體結構緊湊,節省安裝空間

u 工藝高效穩定:處理速度快、均勻性好、重復性高、潔凈無污染,保障批量生產一致性

u 支持定制化:可根據用戶爐體結構、工藝需求,定制離子源規格、控制方式等專屬方案

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